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Capa e sumário da publicação (5 MB)
 
 
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  • The Museum for African Art (Nova Iorque, Estados Unidos)
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  • Byvanck, Valentijn
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  • Farrell, Laurie Ann
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  • The Museum for African Art (Nova Iorque, Estados Unidos)
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  • Byvanck, Valentijn
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  • Farrell, Laurie Ann
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    Looking both ways : art of the contemporary african diaspora / edited by Laurie Ann Farrell ; with contributions by Valentijn Byvanck... [et al.]
     
    AUTHOR(S): 
    The Museum for African Art (Nova Iorque, Estados Unidos)
    Byvanck, Valentijn
    Farrell, Laurie Ann
    PUBLICATION: 
    New York : Museum for African Art ; Gent : Snoeck, 2003
    PHYS.DESCRIP.: 
    184 p. : il. color. ; 30 cm
    NOTES: 
    . - Obra publicada por ocasião da exposição patente no Museum for African Art, Nova Iorque, de 14 de Nov. de 2003 a 1 de Março de 2004, com posterior itinerância
    Contém bibliografia
    ISBN: 
    0-945802-35-8
    SUBJECTS: 
    Looking both ways : art of the contemporary african diaspora -- Exposições -- Nova Iorque (Estados Unidos) -- 2003-2004 -- [Catálogos]
    Arte -- África -- Séc. 20-21
    Pintura -- África -- Séc. 20-21
    Instalações -- África -- Séc. 20-21
    Fotografia -- África -- Séc. 20-21
    Artistas africanos -- Séc. 20-21
    UDC: 
    7(6)"19/20"
    75(6)"19/20"
    77(6)"19/20"
    061.4(73)"20"
    CALL NUMBER(S): 
    AHP 5223
    AHP 5223.2
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